高频溅射相关论文
制样是制备高质量电镜样品照片的关键一步。关于催化剂的电镜样品制备方法,根据不同对象和要求而异。本文介绍一种模型催化剂的电......
光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气......
该文介绍了一种采用掺氮直流磁控反应溅射薄膜电阻工艺，可以显著降低绝对值很大的电阻薄膜正温度系数。在单片ＩＣ中典型的５００～２０００Ω／□应用范围......
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本文采用高频溅射方法，在抛光Ｓｉ（１１１）衬底上制备出碳化硅薄膜，了薄膜的高温真空退火勺，实验表明，退火后的薄膜具有较淡理想的结晶取向和发光性......
本文用扫描电镜、经外吸收光谱、Ｘ射线光电子能谱和Ｘ射线衍射技术对高频溅射沉积法制备的氮化碳膜的生长过程进行了研究。改变溅射条......
用高频溅射法在不锈钢ＳＵＳ４１０上镀Ｔａ２Ｏ５薄膜，并对膜的组成等进行了分析。用交流阻抗法和钝化曲线法等电化学方法，研究了薄膜的耐蚀性与ｐＨｐｘ的关系。......
