本文大体可分为两部分:一是研究了KI-AgI体系的两种化合物KAg4I5和K2AgI3的制备及其物性;二是研究了有序介孔二氧化硅SBA-15材料的......

报道了热氧化制备钠米ZnO薄膜的光致发光.首先利用低压金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)工艺,在硅(100)衬底上制备了高质量的ZnS薄......

用波长为1064nm的Nd—YAG激光器，在氧的活性气氛中，通过激光烧蚀Zn靶在Si（111）衬底上获得ZnO薄膜．用电子显微镜（XRD和FESEM）表征ZnO薄膜的......

采用射频磁控溅射技术制备出掺Al的富Si／SiO2复合薄膜，以不同退火温度对样品进行热处理。对样品进行X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（X......

用苯热合成法分别在２００℃、３００℃、４００℃下制得非晶ＳｉＯｘＣｙＨｚ膜，在室温下观测到强的紫外光致发光，典型样品的发光强度可与多孔硅相比。实验中发现不同温......

利用直流射频磁控溅射制备了氧化锌薄膜,测量了不同温度下的氧化锌薄膜的光致发光.氧化锌薄膜的室温紫外发射谱是由两个发射峰构成......

用含ZnCl2的二甲基亚砜溶液做电解液可在Si衬底上电化学沉积纳米晶薄膜.薄膜的粒径尺寸为8.9nm,样品的光致发光谱以紫外发射峰为主......

用热氧化ZnS薄膜方法制备纳米ZnO薄膜, 并用X射线衍射谱,光致发光谱表征和研究纳米ZnO薄膜结构特征及热氧化温度对薄膜质量的影响.......