残胶相关论文
溶剂型丙烯酸酯压敏胶具有光学性能好、润湿性佳、干燥速度快、易于加工等特点。实验采用丙烯酸异辛酯、丙烯酸丁酯、丙烯酰胺、丙......
提出一种采用铜薄膜作牺牲层去除负性光刻胶残胶的方法,利用铜薄膜在湿法腐蚀过程中的侧蚀现象,将基底的平均残胶量从13.4个/mm2减......
提出了一种双层胶工艺去除表面残胶的新方法,即以正性光刻胶为底层胶膜、负性光刻胶为顶层胶膜,能有效地去除基底残胶。研究了正性......
纳米压印工艺中的压印胶在固化后会发生聚合物的铰链,生成高分子聚合物,很难被一般有机溶剂清除,从而影响器件的性能。为有效去除......
相移掩模(Phase Shift Mask)在实际使用过程中,往往会因为保护膜沾污、损坏或者因为掩模结晶(Haze)等问题需要返回掩模工厂进行重......
本文介绍了保护膜的结构,膜的生产工艺,胶的分类及主要特征:粘着力;内聚力:附着力;耐紫外线能力等,并进一步描述了保护膜的生产过......
对丙烯酸酯压敏胶表面保护膜的内聚破坏、粘基破坏、迁移残留等3种残胶现象进行了分类说明,提出了剥离强度经时变化、老化、与被保......
石墨烯具有高载流子迁移率、高热导率、高力学强度等独特性能,可应用于微电子器件、生物传感器、燃料电池、储能器件等,在许多领域......
