光栅标记相关论文
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正。实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记。利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正，其......
针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号......
精密定位技术是超精密加工、集成电路器件制造、电子产品组装线、生物工程及纳米技术等领域的关键性基础性技术，其技术涉及到激光理......
在纳米光刻中，采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制，发生双光栅......
