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本文主要探讨硒化铅薄膜的生长机制以及镀膜工艺参数、掺杂处理等对硒化铅薄膜成分、结构、级光电性能的影响,以保证探测器的实际应用性能,促进核物理和粒子物理实验研究的顺利开展。
探测器硒化铅薄膜的磁控溅射制备及性能研究
【摘 要】
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本文主要探讨硒化铅薄膜的生长机制以及镀膜工艺参数、掺杂处理等对硒化铅薄膜成分、结构、级光电性能的影响,以保证探测器的实际应用性能,促进核物理和粒子物理实验研究的顺
【机 构】
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陕西华星电子集团有限公司
【出 处】
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黑龙江科技信息
【发表日期】
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2016年24期
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