非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜的场致电子发射预击穿现象研究

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利用脉冲激光沉积技术(PulsedLaserDeposition)首次制备出非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜,用其做为冷阴极,观察到其场致电子发射的预击穿现象,预击穿后阈值场强为7V/μm,最大发射电流密度为1.2mA/cm2。利用透明导电薄膜阳极技术可观察到电子在薄膜阴极表面的发射区域。用扫描电子显微镜(SEM)观察了预击穿后发射区域的表面形貌的变化,并对复合薄膜的预击穿现象和场电子发射机理进行了探讨。该复合薄膜可能作为一种新型的场发射冷阴极,在平面显示器件中得到应用。 The amorphous carbon-polyimide composite film was firstly prepared by Pulsed Laser Deposition, which was used as the cold cathode. The pre-breakdown phenomenon of field-induced electron emission was observed. The threshold field strength after pre-breakdown 7V / μm, the maximum emission current density of 1.2mA / cm2. The emission area of ​​electrons on the cathode surface of the film can be observed by using the transparent conductive film anode technology. Scanning electron microscopy (SEM) was used to observe the change of the surface morphology of the pre-breakdown emission region. The pre-breakdown phenomenon and field electron emission mechanism of the composite films were also discussed. The composite film may be used as a new type of field emission cold cathode in flat panel display devices.
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