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利用射频等离子体化学气相沉积法,以丁烷、氢气和氩气的混合气体为原料,在Φ200 mm锗基片上沉积出均匀的类金刚石薄膜.研究类金刚石薄膜的特性及工艺参数对其性能的影响规律,给出应用于红外装置中的类金刚石薄膜镀膜元件光谱性能.
射频等离子体法制备类金刚石薄膜
【摘 要】
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利用射频等离子体化学气相沉积法,以丁烷、氢气和氩气的混合气体为原料,在Φ200 mm锗基片上沉积出均匀的类金刚石薄膜.研究类金刚石薄膜的特性及工艺参数对其性能的影响规律,
【机 构】
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西安应用光学研究所
【出 处】
：
应用光学
【发表日期】
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2003年6期
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