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通过对真空溅镀生产线靶材的刻蚀情况观测,发现所有产线均存在不同程度的靶面刻蚀不均现象,而3号线尤为突出,其端部刻蚀深度相对于其它部位刻蚀深度较深,导致靶材使用寿命短,利用率低。采用高磁导率材料电工纯铁DT4制作导磁片装入磁控装置,试验结果表明,降低了靶面刻蚀不均匀度,靶材利用率提高至少10%。
采用导磁片改造磁控装置提高靶材利用率
【摘 要】
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通过对真空溅镀生产线靶材的刻蚀情况观测,发现所有产线均存在不同程度的靶面刻蚀不均现象,而3号线尤为突出,其端部刻蚀深度相对于其它部位刻蚀深度较深,导致靶材使用寿命短,
【机 构】
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苏州凡特真空溅镀科技有限公司,
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2011年05期
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