【摘 要】
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随着电子工业的迅速发展,对电路的集成度要求愈来愈高。集成电路的电学性能对硅衬底片表面状态是十分敏感的,为获取最佳硅表面状态,从单晶硅到抛光片的完成所涉及到的工艺以
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随着电子工业的迅速发展,对电路的集成度要求愈来愈高。集成电路的电学性能对硅衬底片表面状态是十分敏感的,为获取最佳硅表面状态,从单晶硅到抛光片的完成所涉及到的工艺以及它们之间相互关系进行研究和讨论,来满足电子工业对硅衬底片质量的要求。本文将对单晶硅在加工过程中所涉及的工艺与质量之间的关系进行详细论述。
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