【摘 要】
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本文用统计方法研究了光刻工艺,确定了对元件线条尺寸影响最大的因素,列出了这些因素的分布值;还确定了在光刻工艺中某些工序中必须检验的参数.并列出了测量这些参数的抽样数
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本文用统计方法研究了光刻工艺,确定了对元件线条尺寸影响最大的因素,列出了这些因素的分布值;还确定了在光刻工艺中某些工序中必须检验的参数.并列出了测量这些参数的抽样数量;用多因素试验法找到了进行某些光刻工序的最佳方式,给出了达到最佳值的元件线条尺寸分布值;还提出建立整个光刻工艺数学模型的方法。
In this paper, we have studied the photolithography process by using the statistical method, determined the factors that have the most influence on the line dimension of the device, listed the distribution values of these factors, and also determined the parameters that must be inspected in some processes during the photolithography process The number of samples for measuring these parameters was measured. The best way to perform some photolithographic processes was found using the multivariate test method, and the line size distribution values of the elements were obtained. The mathematical model of the lithography process method.
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