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介绍了化学机械抛光设备中承载台机构的功能、结构组成,筛选合适的承载台材料,并通过运用MSC PARTRAN有限元软件对该机构进行模态分析,研究它的固有频率及振动特性,综合对比后,选择合适的方案,满足工艺过程的需求.
CMP设备承载台关键技术研究
【摘 要】
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介绍了化学机械抛光设备中承载台机构的功能、结构组成,筛选合适的承载台材料,并通过运用MSC PARTRAN有限元软件对该机构进行模态分析,研究它的固有频率及振动特性,综合对比
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2015年11期
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