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采用俄歇能谱技术分析了铂层厚度,合金温度及表面染色对铂化硅形成的影响,并分析了王水对铂化硅的作用,给出了分析结果.
采用俄歇电子能谱技术分析铂化硅的合金行为
【摘 要】
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采用俄歇能谱技术分析了铂层厚度,合金温度及表面染色对铂化硅形成的影响,并分析了王水对铂化硅的作用,给出了分析结果.
【机 构】
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信息产业部电子十三所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2002年5期
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