【摘 要】
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在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及镜反射率和漫反射率都很低的高漫反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的法向积分比辐射率ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５．积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体
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在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及镜反射率和漫反射率都很低的高漫反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的法向积分比辐射率ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５．积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的ｎ＝０．１５，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８～２５μｍ的Ｒｍ＝０．２１，ＲＤ＝０．１４．对于以Ｋ９玻璃为基体的同种表面材料镜面，在相同条件下测得ｎ＝０．１２，Ｒｍ＝０．９３．ＲＤ＝０．１２。
On metallic and non-metallic substrates, highly diffuse reflectance surfaces with low thermal infrared radiance and low specular reflectance and diffuse reflectance were prepared. For the brass substrate, the normal integral emissivity n = 0.13, T = 413K, = 8-25μm for T = 373K, ≥8μm Rm = 0.15. The integral diffuse reflectance was RD = 0.16; for K9 glass substrate T = 373K, n = 0.15 for ≧ 8 μm, T = 413K, Rm = 0.21 for 8-25 μm and RD = 0.14. For the same kind of surface material mirror base with K9 glass, n = 0.12 and Rm = 0.93 were measured under the same conditions. RD = 0.12.
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