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1.引言$$2019年底最新版的《瓦森纳安排》(Wassenaar Arrange-ment)军民两用技术清单中,将原2018年版的“用于开发将掩模图形转移到半导体基底上的光刻、刻蚀或沉积等工艺的物理模拟软件”修改为“特别是用于极紫外光刻EUV相关的计算光刻软件。$$物理模拟软件是指对半导体?
高端芯片制造工艺中的EDA工具——计算光刻(一)
【摘 要】
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1.引言$$2019年底最新版的《瓦森纳安排》(Wassenaar Arrange-ment)军民两用技术清单中,将原2018年版的“用于开发将掩模图形转移到半导体基底上的光刻、刻蚀或沉积等工艺的
【发表日期】
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2004年期
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