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随着科技的进步,电子设备逐步趋于小型化,而制约电子设备小型化的重要因素就是电容器的体积。而目前,铝箔的腐蚀扩面效果是制约小体积高比容铝电解电容器发展的关键因素。由于铝箔腐蚀扩面的影响因素较多、工艺较为复杂,直接制约电容器电容量的提高。本文通过对铝箔腐蚀扩面工艺的研究,对腐蚀的工艺参数进行了优化,使腐蚀孔的均匀性和密度得到了提高,获得了小体积铝电解电容器所需要的高压阳极箔。本研究为了获得腐蚀工艺的最优参数,使用了神经网络、正交试验、扫描电镜等方法对腐蚀工艺的腐蚀时间、电流密度、腐蚀液成分、腐蚀温度等因