硅基微纳浅刻蚀光栅分束器的研究

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光栅是一个历久弥新的光学器件,随着现代微纳米加工生产技术和集成光路的发展,尤其是硅基光电子的发展,光栅也在不停的发展及完善中,与其他光电器件一样,光栅在人类社会和经济的发展中做出了巨大的贡献。就硅基集成光路来说,光栅能够很好的实现耦合、相位匹配、光束整形、反射等功能,且具有结构简单、易于集成、制作工艺简单等优点,作为一个基础性光学元器件以被广泛的应用于集成光路中。鉴于硅基微纳光学器件是实现光路集成、片上光电转换以及探测的重要基础元件,论文所有研究将聚焦于微纳尺度范围内。基于严格耦合波分析方法(rigorouscoupled-waveanalysis,RCWA)和时域有限差分方法(finite-differenttime-domain,FDTD),借鉴在微电子加工工艺常用的硅材料系统,本文重点研究了两种结构简单的硅基微纳光栅分束器:(1)利用非对称光栅能灵活调控光栅区域各个频谱分量的分布,阻止光栅中泄露模的快速衰减,从而实现宽带、大角度、高衍射效率等独特性能,本文设计、优化了一种双功能的单层浅刻蚀非均匀光栅偏振分束器,在1550nm波段附近,当TE偏振波垂直入射时,该器件反射率高达到97%以上;而当TM偏振波垂直入射时,其能产生50:50反射和透射光。(2)基于高折射率差绝缘体上硅(silicon-on-insulator,SOI)材料系统,本文还设计、优化了一种高性能、偏振无关的1×3多层亚波长光栅结构的功率分束器。在1550nm波段附近,当入射光垂直照射时,器件对TE偏振光的0级和±1级透射率分别为31%、32%、32%;对TM偏振光的0级和±1级透射率分别为33%、32%、32%。
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