软磁复合材料是由金属软磁颗粒经界面绝缘包覆复合而成的软磁材料。作为一种电磁转换功能材料,其兼具金属软磁高饱和磁化强度和铁氧体软磁高电阻率、低损耗的优点,广泛应用于电力、通讯、能源和交通等领域。目前,制约软磁复合材料发展的主要问题在于:非磁性包覆层“稀释”了材料的磁感应强度,而非磁性间隙又降低了软磁复合材料的有效磁导率。因此,如何通过合理的界面设计、选择合适的绝缘介质以及改善异质界面,成为优化软磁复合材料磁性能的研究重点。本文分别通过气相氮化法在Fe粉表面原位制备高电阻率的Fe4N磁性绝缘层,采用共沉淀法在铁基合金表面原位合成高电阻率的软磁铁氧体包覆层。所制备的界面包覆层兼具高电阻率、高磁导率和优良的包覆性,有望从根本上改善软磁复合材料的综合软磁特性。具体研究内容和结论如下:（1）球形Fe4N/Fe软磁复合材料的气相氮化法原位制备及交直流软磁性能研究。球形Fe粉在550℃、氨氢比为1的气氛中氮化得到Fe4N/Fe。结果显示:随着氮化时间的增长,Fe4N含量增加,样品的磁损耗减小,品质因数增大,直流偏置性能更佳。在20-590 k Hz范围内,随着磁通密度由10增大至30 m T,样品磁损耗的主要来源由涡流损耗转变为磁滞损耗。（2）片状Fe4N/Fe软磁复合材料的气相氮化法原位制备及交直流软磁性能研究。采用机械球磨法将球形Fe粉扁平化,在550℃、氨氢比为1的气氛中氮化得到片状Fe4N/Fe。结果显示:随着氮化时间的增长,Fe4N含量增加,样品的磁损耗减小,品质因数增大,直流偏置性能更佳。在20-590 k Hz范围内,随着磁通密度由10增大至30 m T,样品磁损耗的主要来源由涡流损耗转变为磁滞损耗。相比于球形Fe4N/Fe,片状Fe4N/Fe样品的径厚比增大,形状各向异性增强,磁导率变大。（3）Ni0.5Zn0.5Fe2O4/FeSiAl软磁复合材料的共沉淀法原位制备及交直流软磁性能研究。采用共沉淀法在FeSiAl粉表面直接合成不同含量的NiZn铁氧体绝缘层。结果显示:共沉淀原位生长法的最佳煅烧温度为650℃。NiZn铁氧体绝缘层可以有效降低高频涡流损耗。NiZn铁氧体含量为3%的样品具有128.6emu/g的高饱和磁化强度和最大的品质因数。在2-10 m T、20-590 k Hz范围内,样品的磁损耗主要来源于磁滞损耗。（4）Mn0.5Zn0.5Fe2O4/Fe4N软磁复合材料的制备及交直流磁性能研究。采用共沉淀法制备Mn Zn铁氧体,气相氮化法制备Fe4N,按照不同比例混合制成Mn Zn/Fe4N软磁复合材料。结果显示:随着Mn Zn铁氧体包覆量的增加,样品的涡流损耗降低,品质因数增大,软磁性能更优。2-10 m T、20-590 k Hz范围内,样品的磁损耗主要来源于磁滞损耗。本文深入分析了影响软磁复合材料性能的关键因素,经合理的界面设计,采用气相氮化法和共沉淀法在铁基软磁颗粒表面原位制备绝缘包覆层。研究结果表明,通过优化界面结构,可有效降低铁基软磁复合材料的高频磁损耗、增大磁体有效磁导率。