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随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,基于柔性衬底的透明导电薄膜将成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此引起人们越来越多的关注。ZnO,一种具有高激子束缚能(60 meV)的宽直接带隙半导体,由于其透明导电性,无毒,廉价,原材料丰富等优点,被认为是具有广阔应用前景的透明导电材料。本论文在系统总结国内外柔性透明导电薄膜的基础上,利用磁控溅射和原子层沉积(ALD)方法,在柔性塑料衬底上制备了具有叠层结构和纳米阵列结构的ZnO透明导电薄膜。并对透明导电薄膜的电学性能,光学性能及微观形貌进行了研究。主要内容包括:1.铟(In)层的厚度对ZnO/In/ZnO叠层透明导电薄膜的电学性能和光学性能的影响;2.铜(Cu)层厚度对铝掺杂氧化锌(AZO)/Cu/AZO叠层透明导电薄膜的电学性能和光学性能的影响及叠层薄膜的弯曲性能;3.在表面具有蛾眼结构的柔性塑料衬底上,制备具有阵列结构的AZO透明导电薄膜,研究溅射和ALD方法对薄膜表面形貌的影响及相应的光学性能;4.在表面具有蛾眼结构的柔性塑料衬底上,制备具有阵列结构的AZO透明导电薄膜,研究AZO薄膜厚度对表面形貌及电学性能和光学性能的影响。