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目的:运用CBCT三维测量方法,评价微种植钉与支抗牙刚性连接构建间接支抗辅助无托槽隐形矫治器远移上颌磨牙的支抗控制效果,为无托槽隐形矫治技术的支抗设计提供理论参考。方法:选取采用无托槽隐形矫治技术远移上颌磨牙的成人患者11例(其中男性3例,女性8例,平均年龄27.6岁)作为研究对象。磨牙远移时,于上颌第一磨牙和上颌第二前磨牙颊侧根间植入微种植钉,利用微种植钉刚性连接上颌第二前磨牙使其成为支抗牙,以加强前牙支抗辅助远移磨牙;直至第一磨牙远移到位后,转移微种植钉至上颌第一磨牙和上颌第二磨牙颊侧根间,利用微种植钉刚性连接上颌第一磨牙使其成为支抗牙,以加强后牙支抗排齐和内收前牙。于患者治疗前(T0期)、上颌第一磨牙远移到位时(T1期)和按临床设计前牙排齐内收到位时(T2期)拍摄CBCT。将CBCT文件导入Mimics20.0软件进行三维重建,经头位校正后,在多平面重组视图下确定各个参考点,选取双侧耳点、右侧眶下缘点、鼻根点和前鼻棘点为参考点构建三维空间坐标系,对上颌第一磨牙、上颌第二前磨牙、上颌中切牙位置进行三维测量。使用SPSS 22.0软件对所测数据作统计分析。结果:T0-T1期、T1-T2期和T0-T2期,上颌第一磨牙、上颌第二前磨牙及上颌中切牙在三维方向上变化如下:1、T0-T1期:上颌第一磨牙在矢状向发生明显远中移动,牙冠远中移动3.57±0.95mm,牙根远中移动2.57±0.73mm,在垂直向上,发生龈向压低1.28±0.77mm,差异均有统计学意义(P<0.05);上颌第一磨牙在横向上无明显位置变化,差异无统计学意义(P>0.05)。上颌第二前磨牙和上颌中切牙在三维方向位置无明显变化,差异无统计学意义(P>0.05)。2、T1-T2期:上颌第一磨牙在三维方向位置无明显变化,差异无统计学意义(P>0.05)。上颌第二前磨牙在矢状向发生明显远中移动,牙冠远中移动2.50±1.06mm,牙根远中移动1.67±1.40mm,差异有统计学意义(P<0.05);上颌第二前磨牙在横向上和在垂直向上位置均无明显位置变化,差异无统计学意义(P>0.05)。上颌中切牙在矢状向发生舌向内收,牙冠舌向内收1.20±1.33mm,牙根舌向内收1.07±0.87mm,差异有统计学意义(P<0.05);上颌中切牙在垂直向上位置无明显变化,差异无统计学意义(P>0.05)。3、T0-T2期:上颌第一磨牙在矢状向发生明显远中移动,牙冠远中移动3.46±0.88mm,牙根远中移动2.06±1.86mm,在垂直向上,发生龈向压低1.03±0.80mm,差异均有统计学意义(P<0.05);在横向上,无明显位置变化,差异无统计学意义(P>0.05)。上颌第二前磨牙在矢状向发生明显远中移动,牙冠远中移动2.65±1.06mm,牙根远中移动2.33±2.09mm,差异有统计学意义(P<0.05);在横向上和垂直向上均无明显位置变化,差异无统计学意义(P>0.05)。上颌中切牙在矢状向发生舌向内收,牙冠舌向内收1.10±1.29mm,牙根舌向内收1.05±1.24mm,差异有统计学意义(P<0.05);在垂直向上,上颌中切牙发生轻微的HE向伸长0.40±1.60mm,但差异无统计学意义(P>0.05)。结论:使用微种植钉与支抗牙刚性连接作为间接支抗辅助无托槽隐形矫治器远移磨牙可以有效增强支抗牙支抗作用,是隐形矫治技术远移磨牙较为理想的增强支抗手段。