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用于极紫外光刻非球面光学元件检测的补偿器检测系统
为了实现极紫外光刻(EUVL)投影物镜光学元件均方根(RMS)0.2~0.3 nm的面形检测精度要求,研究了超高精度光学元件检测方法。采用误差......
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测量
非球面补偿器
光学设计
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aspherical null lens
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基于自由曲面的大视场推扫式光学系统设计
经济的快速增长下,空间对地遥感在国防和国民经济中的应用越加广泛,高精度、高清晰度的对地成像和遥感技术在旅游、交通运输、环境......
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光学设计
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