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研究了在Pt/Ti/SiO2/Si基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅[(Pb, La)TiO3,PLT]薄膜的工艺, 并分析了各种因素对其相结构的......
首先通过金属有机化合物热分解(MOD)法在Si(100)基片上制备出LaNiO3(LNO)薄膜,再通过溶胶-凝胶(sol-gel)法,在LNO/Si(100)衬底上制备出(PbxLa1......
液态源雾化化学沉积(Liquid Source Misted Chemical Deposition,LSMCD)制膜法是一种新型的铁电薄膜制备工艺,它克服了甩胶工艺的缺点......