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钨丝-基体表面距离相关论文

钨丝到基体表面距离对HFCVD金刚石薄膜质量的影响

以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属铬,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在铬过渡层上合成......

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金刚石薄膜铬过渡层钨丝-基体表面距离热丝化学气相沉积 diamond films interlayer of chromium distance fr

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