节瘤缺陷相关论文
本文就彩屏玻璃窑炉生产初期节瘤出现的时间、数量、形态等及其产生的内在原因加以分析,并对窑炉生产初期耐火材料的蚀变规律做一......
P-polarization high reflectors are deposited by e-beam from hafnia and silica. 1-on-1 and N-on-1 tests at 1064-nm wavele......
本文研究了节瘤缺陷的电场增强效应,探究了不同条件下节瘤缺陷的电场增强规律。并基于电子束蒸发薄膜制备技术,采用人工种植节瘤缺......
采用近场显微成像法测量了高功率激光镜片薄膜表面裂纹和内部节瘤缺陷,并分析了它们的形成机制。100nm孔径的圆锥形针尖辐射的倏逝......
用台阶仪、Normaski和原子力显微镜图貌分析了与HfO/SiO薄膜激光损伤密切相关的表面微结构缺陷节瘤、划痕和孔洞等缺陷的形态结构.......
在多层介质薄膜中,节瘤缺陷是影响薄膜激光损伤的关键因素.为了理解节瘤缺陷对薄膜激光损伤的影响,以热传导理论为依据,通过有限元......
在充分理解纳秒脉冲激光作用下近红外激光薄膜的损伤机制的基础上,分别针对反射元件和透射元件的损伤特点,探讨了两种元件的激光损......
采用离子束溅射（IBS）的方式,制备了1064 nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜.对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析......
探究了节瘤缺陷平坦化技术中平坦化层（刻蚀层）厚度和种子源尺寸之间的刻蚀规律,同时解释了平坦化技术提高节瘤缺陷的损伤阈值的机制......
结合本实验室及国内外同行的工作进展,概括性地介绍了光学薄膜中节瘤缺陷的生长特性、结构特征和损伤特性,以及激光预处理和破坏修......
运用时域有限差分(FDTD)方法建立了薄膜中节瘤缺陷在高斯激光照射下电磁场响应模型,分析了节瘤的深度、起始颗粒大小和入射光角度......
主要讨论了电子束蒸发SiO2/HfO2薄膜的面形控制和损伤性能。研究了电子束蒸发工艺参数对薄膜应力以及面形的影响;分析了制备工艺对......
研究了1 064 nm Hf O2/Si O2偏振分光膜中节瘤的损伤特性。为了研究偏振分光膜中节瘤缺陷种子源粒径大小与损伤阈值之间的关系,在......
