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激光等离子体极紫外光源具有体积小、稳定性高和输出波长可调节等优势，在极紫外光刻领域发挥着重要的作用。Bi靶激光等离子体极紫外......
近年来，随着电子产品爆发式的增长，半导体产业不断追求缩小芯片刻蚀的特征尺寸以提升产品的性能，芯片生产所采用的光刻技术正面临着巨......
在极紫外光刻技术中,由于多层反射膜只能对极紫外光源在一个很窄的范围内进行收集,所以为了能够更有效的发挥激光等离子体(LPP)光......
基于Navier-Stokes方程的自相似解,研究了最小质量限制液滴Sn靶激光等离子高能离子的时空分布特性,并将该结果应用于高能离子碎屑......
极紫外光刻技术是制造特征尺寸小于22 nm芯片的首选关键技术,光源是极紫外光刻系统的重要组成部分。激光等离子体极紫外光源因体积......
