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根据下一代光刻技术发展趋势和2006年国际半导体技术路线图(ITRS2006)，浸没式ArF光刻技术是实现65nm及其以下技术节点最有潜力的候......
浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质.曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致......
首次利用自主研发的光刻辅助设计软件MicroCruiser结合Prolith8.0.2,研究了分辨力增强技术在65 nm浸没式ArF光刻中的应用,研究表明......
本文简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题，在跟踪报道国内外最新研究进展的同时，介绍前沿光刻技术的研发特点......
