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实验结果表明,利用O2/N2的低分压再氧化和中间氧化,以及利用O2/NH3的掺氧再氮化均能有效地改善氮氧化膜的界面特性,而其优异的电击......
本文提出的用 O2/N2进行中间氧化(退火)的两步热氮化工艺,能将 SiOxNy-Si 系统的界面态密度和固定电荷密度减少到可与干氧氧化膜相比......