利用电化学方法与表面分析技术,考察了平面磁控溅射Fe-20Cr纳米涂层的腐蚀电化学性能及耐蚀机制.研究表明,尽管溅射纳米涂层钝化膜......

对于超高密度的纵向磁记录和垂直磁记录,使用高饱和磁化强度的材料作为写头磁极材料是其本质要求。对于成分为Fe65Co35的Fe-Co合金......

ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......

用高淀积速率R.F.平面磁控溅射已制备出具有极好结晶取向和表面平整度的ZnO压电薄膜.通过X-射线衍射,扫描电子显微镜,反射式电子衍......

片式薄膜电阻一般采用平面磁控溅射NiCr薄膜沉积在三氧化二铝陶瓷基片上。然后通过光刻工艺来实现电阻图形，通过使用扫描电子显微镜......

一、前言在半导体器件工艺中,随着大规模集成电路向超大规模集成电路的发展,器件的尺寸不断缩小,而片子的面积不断增大,这样金属-......