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多重散射自洽场相关论文
氮分子内壳层激发的理论研究
应用多重散射自洽场理论方法,该文给出了氮分子内壳层激发振子强度的理论结果。计算和已有的实验测量符合良好,并对实验谱进行标识,同......
会议
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SiH,4分子近阈结构的理论研究
利用多重散射自洽场方法,计算了SiH分子内壳层(2s,2p)电子跃迁光吸收谱,计算的能级位置和振子强度密度都与实验符合较好。通过研究Si2......
会议
X光吸收谱
硅化合物
近阈结构
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