外来原子相关论文
为了发展近代新型材料,必需深入开展基础性研究工作和新技术开发,其中对表面科学技术的研究是目前材料科学中一个十分活跃的领域......
对C_(60)球状碳分子的研究是近年来国际科学界最热门的话题之一。尽管它出现的时间并不长,但从诞生之时起它就引起了人们的极大兴......
从理论和实验上研究了材料功函数对场致发射稳定性的影响。研究发现，功函数是决定材料发射稳定性的主要因素。所得数据表明：（1）尖端功......
在加衬底偏压和不加衬底偏压两种情况下，用微波等离子体化学汽相沉积（Ｍ３ＶＣＶＤ）技术在Ｓｉ（１００）衬底上合成了织构的金刚石薄膜使用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和取向......
作者在大气、常温环境条件下，对采用直流气体放电活化反应蒸发沉积法制备的超微粒氧化锌薄膜的表面构象进行了扫描隧道显微镜观察，获......
一、概述离子注入工艺现已用来改进钢和其它金属及其合金的磨损阻抗。1979年我们的实验表明:将氮离子注入到钢中可以明显地改善钢......
已发表的关于论述金属杂质、非金属杂质和合金化元素对铝和铝合金结构和性能影响的文章是大量的。许多作者都做了很大努力总结杂......
本文研究了室温形变和稀土元素对20钢碳、氮共渗的复合催渗作用。试验结果表明,适当的室温形变和加入稀土元素对20钢碳、氮共渗有......
概述了石墨插层化合物的结构特征和主要物理与化学特性，介绍了这类新型材料的应用前景。
The structural features and main physi......
用溶胶——凝胶法制备Ｆｅ２Ｏ３：ＳｎＯ２薄膜，研究了它的气敏透射光学特性，分析了实验结果，并解析了气敏光学透射机理
The Fe2O3: SnO2 thin film was ......
研制以ＳｎＯ２ 薄膜作敏感材料的气敏比色皿，发现在可见光区透射率随被测气体浓度的增大而增大，并解释敏感机理
The development of a gas-......
１９９６年的诺贝尔化学奖由美国得克萨斯州休斯顿的赖斯大学的柯尔教授和斯莫利教授以及英国萨塞克斯大学的克罗托教授因１９８５年发现富勒烯而分......
六十年代以来,半导体气敏元件在国际上有了引人注目的发展。这种元件的灵敏度很高,只要气氛中含有不到千分之一的待测气体,其电阻......
目前硅仍是最主要的半导体结构元件的基础。用外来原子进行掺杂,可以获得一定的电性能(例如电阻值或p-n结)。以前用的掺杂剂都来......
碲镉汞晶体的化学计量比和自由载流子浓度是通过热处理来调整的。即是在组分的蒸汽下,从接近固化温度时慢慢冷却到室温。碲镉汞保......
离子溅射自 1852年被 Crove[1]研究以来,至今已发展成为一种用途颇广的技术.如清洁固体表面、溅射淀积薄膜、制作微电子线路、加工......
本文提出了一个带悬键和饱和键的Bethe格子模型,计算了非晶态硅的带隙态密度,证明了Spear实验的带隙态Ex峰是由悬键产生的,E_y峰是......
一、固体表面和表面分析 固体物质都有表面.在这里,表面通常是指固体最外层的1—10个原子层,其厚度大约是几个至几十个埃.有时表面......
本文结合我们过去的工作,介绍场致发射技术的发展和在各领域中的应用,包括场发射的稳定性与真空的连系、场发射x光管和电子注管、......
这是作者参加１９９３年２月在美国召开的有关多孔硅发光的国际会议后写的总结．它深入浅出地介绍了会议的全貌，概括了多孔硅发光及有关性质的研......
利用扫描俄歇微探针研究了氧化过程中Ni—Cr合金的表面氧化行为。经过600℃、20min的氧化后,作为选择性氧化的结果,Cr和Ni分别在晶......
本文比较了金属和硅两种场发射阴极的优缺点，研究了将两者优点结合在一起的金属涂敷硅阴极的制造工艺，比较了电镀法和溅射法制备的金......
ＴＲＩＳＯ包覆燃料颗粒阻挡固态放射性裂变产物扩散释放的能力比ＢＩＳＯ包覆燃料颗粒高２─４个数量级，是未来高温气冷堆首选的燃料。它的优越性能来源于......
利用扫描俄歇微探针研究了氧化过程中Ni—Cr合金的表面氧化行为。经过600℃、20min的氧化后,作为选择性氧化的结果,Cr和Ni分别在晶......
