光刻胶光栅相关论文
利用紫外激光还原银离子并结合干涉光刻技术，实现了金属光子晶体的制备。以干涉光刻制备的光刻胶光栅为模板，将聚乙烯吡咯烷酮与......
介绍了一种实时监测全息光栅曝光过程的新方法.在曝光过程中,光刻胶折射率的空间分布发生微小变化,由此形成的潜像光栅同时对记录......
研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。该方法基于下面的原理:如果某泄漏模在包层中的隐失......
全息光刻-单晶硅各向异性湿法刻蚀是制作大高宽比硅光栅的一种重要方法 ,而如何增大光刻胶光栅的占宽比,以提高制作工艺宽容度和光......
