光刻掩膜相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

光刻掩膜相关论文

光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性

紫外光谱研究表明,AZ正性光胶当厚度大于10μm时,在200～285nm的紫外光区几乎不透光。本研究据此研制了一种以固化后的AZ光胶做挡光......

期刊

光刻掩膜 AZ光胶聚碳酸酯光化学改性金微电极 Photomask AZ photoresist polycarbonate phtoochemica

多晶硅绒面制备工艺的研究

表面织构化的多晶硅片减少了光在太阳电池表面反射损失。多晶硅经过一定表面处理后，其表面呈现凹凸不平的孔洞状表面形态，进而可使可......

学位

多晶硅化学酸腐蚀电化学腐蚀光刻掩膜绒面

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