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射频磁控溅射制备p—Bi2Te3热电薄膜的电学性能研究
通过射频磁控溅射并控制溅射时间在玻璃基底上沉积了不同厚度和成分的P型Bi2Te3薄膜。Bi2Te3薄膜主要以(221)晶面平行于基底进行生长......
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