本文采用交替磁控溅射的方法制备了Si/SiO_2复合膜和SiO_2 /Si/SiO_2三明治结构,并对Si/SiO_2复合膜采用了快速退火加炉内退火的二......

利用SiOxNy 薄膜光学常数随化学计量比连续变化的特性,给出了制备折射率连续可调的SiOxNy 薄膜的实验条件。用磁控反应溅射法制备......

采用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜，用X射线衍射分析（XRD），透射电子显微镜（TEM），X射线光电子能谱（XPS），傅立叶变换红外（FTIR）等对薄膜的结构......

本文采用双离子束溅射沉积法制备了SiOxNy复合薄膜,XRD、TEM测试表明薄膜呈非晶态,FTIR及XPS测试表明薄膜成分由Si、O、N组成,在室......