BI3.15ND0.85TI3O12相关论文
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采用脉冲激光沉积(PLD)技术,利用LSCO/CeO2/YSZ多异质缓冲层,在Si(100)基片上成功地制备了c轴一致取向的Bi_(3·15)Nd_(0·85)Ti_3......
用sol-gel工艺在（001）钇稳定ZrO2（YSZ）单晶衬底上制备了层状钙钛矿型Bi3.15Nd0.85Ti3O12（BNdT）铁电薄膜。X射线衍射结果显示,薄膜沿a/b轴......
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用sol—gel法分别制备了直接沉积在Pt／Ti／SiO2／Si衬底上和加入了TiO2种子层的Bi3．15Nd0．85Ti3O12（BNT）铁电薄膜，研究了种子层对BNT薄膜结构......
用sol-gel法成功制备了Bi3.15Nd0．85Ti3O12铁电薄膜，XRD结果表明制备的BNT薄膜具有（117）和（00l）的混合取向，FE-SEM显示薄膜表面光滑致密，颗......
