BCN薄膜相关论文
本文采用两种靶源(B4C靶,BN／C拼合靶),利用脉冲激光沉积技术在单晶Si基片上制备BCN薄膜,系统研究了沉积工艺、退火条件和靶源形式对......
磁控溅射技术因其具有较高的沉积率速率和较好的成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一，被广泛应用于特殊功能材料薄膜及材料改性等......
B-C-N相的特殊性质引起了人们浓厚的兴趣,以高纯B4C(99.99%)靶所制备BCN薄膜由于具有优异的力学性质和耐磨性,可望在某些领域替代......
采用直流磁控溅射法制备了B-C-N薄膜.通过改变基体偏压,研究其对薄膜的成分、结构和力学性能的影响.X射线光电子谱(XPS)和傅里叶变......
利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮（BCN）薄膜，通过改变靶功率（70W和210W）和基体偏压（-50V～-400V）得到不同成分和组织结构的薄膜。采用x......
类金刚石结构的立方"BCN"材料由于兼有金刚石和立方氮化硼超硬、低摩擦的优点,如有低摩抗磨、高的热稳定性和化学稳定性,并克服了......
为了考察BCN薄膜的高温抗氧化，用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了BCN硬质薄膜材料，用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电镜（HRTEM）、......
利用电弧增强反应磁控溅射（AEMS）方法在高速钢基体上制备了BCN薄膜,通过改变石墨靶功率来调整BCN薄膜中碳元素的含量,采用傅里叶变换......
采用射频磁控溅射方法．以石墨和六方氮化硼（h-BN）为复合靶，在氩气和氮气的氛围中。在室温和673K的条件下，分别改变N2流量，沉积BCN薄膜．经......
利用直流磁控溅射技术制备三元BCN薄膜，通过改变N2／Ar流量比（0．0～0．3）得到不同含氮量的薄膜．采用X射线光电子能谱仪和傅立叶红外光谱仪分析......
本文研究以六方BN为靶材,CH4为反应气体,利用射频溅射技术制备BCN三元化合物薄膜.样品的结构由X射线衍射谱、傅立叶变换红外吸收谱......
随着社会的发展,人们对材料的需求越来越大,并且对其性能的要求越来越高,尤其对于一些大型机械设备,由于长时间的工作,设备的老化......
用射频反应溅射法制备出BCN薄膜．X射线衍射和傅立叶红外吸收光谱测量发现样品的组成原子之间实现了原子级化合，样品与Si衬底之间存在......
采用脉冲激光沉积技术，在Si（100）基片上制备了BCN薄膜，研究了沉积温度和退火处理对BCN薄膜组分和结构的影响。利用傅里叶变换红外光谱（F......
