电阻率均匀性相关论文
随着摩尔定律的逐步实现,大直径硅片的应用规模逐渐扩大,然而,大直径硅外延片的片内均匀性成为了外延的主要问题之一.使用具有五路......
本文采用化学气相沉积（CVD）法在单晶硅衬底上沉积硅外延层,同时研究了沉积工艺对外延层电阻率和厚度的影响规律。研究发现采用H2气变......
区熔工艺中各项参数的设置会直接影响高阻单晶的电阻率均匀性。在高阻区熔硅单晶生长时．通过采用下轴正、反向交替旋转的模式，可使直......
区熔(FZ)硅单晶是制作电力电子器件的主要原材料,产量大约占整个硅片市场6%～8%。高质量的电力电子器件的发展对区熔硅单晶的高完整......
