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基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究
研究了基于电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统的InP基半导体材料的干法刻蚀。采用Cl2/Ar/H2混合刻蚀气体,分别研究了氯气体积分数和ICP......
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干法刻蚀
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