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[学位论文] 作者：温作晓,
来源：沈阳工业大学 年份：2000
该文论述了用溅射法制备InSb薄膜用于制作高性能的霍尔元件.经过大量的实验,制备出了性能良好的InSb薄膜,其电子迁移率达到预定指标.通过对样品霍尔输出特性的测试,分析了工...
[期刊论文] 作者：温作晓, 孙承松,,
来源：传感器世界 年份：1999
本文介绍了用射频溅射法制备的Ｎｉ膜热敏电阻的特性及相应工艺条件。...
[期刊论文] 作者：孙承松,温作晓,等,
来源：仪表技术与传感器 年份：2001
介绍了用RF溅射法制备InSb薄膜时，如何克服In的氧化问题的措施及防止InSb薄膜在热处理过程中继续氧化和挥发的方法。对实验结果进行了电镜和俄歇电子能谱测试分析。结果表明，只...
[期刊论文] 作者：孟军,温作晓,魏同立,
来源：电子器件 年份：2004
介绍了一种LCD驱动控制芯片的总体设计方案.该LCD驱动控制芯片具有比较完备的指令系统、完善的MPU接口和LCD接口、能存储大量常用字符的ROM、用户可以自行设计字符的RAM、光...
[期刊论文] 作者：孟军,温作晓,魏同立,
来源：固体电子学研究与进展 年份：2004
设计了一种用于LCD驱动的4位专用微处理器,按照功能框图对其特点进行分析.该微处理器具有丰富的指令集,能够满足LCD显示的各种要求,系统最大特色就是提供了比较完备的用于测...
[期刊论文] 作者：关艳霞,孙承松,温作晓,
来源：仪表技术与传感器 年份：2000
文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响 ,通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降...
[期刊论文] 作者：孙承松,温作晓,魏永广,,
来源：真空 年份：2000
...
[期刊论文] 作者：张小玲,孙承松,李云鹏,温作晓,
来源：传感器世界 年份：1998
本文介绍了用射频溅射技术制备ＩｎＳｂ薄膜的方法，探索了溅射电压，工作气压，衬底温度及其片电压等条件对膜的特性和结构的影响，着重讨论了溅射条件对膜方块电阻的影响，并初步得出其变化规......
[期刊论文] 作者：温作晓,孙承松,魏永广,关艳霞,周立军,
来源：仪表技术与传感器 年份：2001
介绍一种基于原子比为1:1的InSb靶制备原子比为1:1的InSb薄膜的方法,实验结果表明,该方法能较好地解决类似化合物溅射制膜过程中膜成分与靶偏离问题....
[期刊论文] 作者：孙承松,魏永广,关艳霞,周立军,温作晓,
来源：仪表技术与传感器 年份：2004
介绍了用RF溅射法制备InSb薄膜时,如何克服In的氧化问题的措施及防止InSb薄膜在热处理过程中继续氧化和挥发的方法.对实验结果进行了电镜和俄歇电子能谱测试分析.结果表明,只...
[期刊论文] 作者：温作晓,孙承松,魏永广,关艳霞,周立军,
来源：仪表技术与传感器 年份：2004
介绍一种基于原子比为1:1的InSb靶制备原子比为1:1的InSb薄膜的方法,实验结果表明,该方法能较好地解决类似化合物溅射制膜过程中膜成分与靶偏离问题....
[期刊论文] 作者：孙承松,魏永广,关艳霞,周立军,温作晓,
来源：仪表技术与传感器 年份：2004
介绍了用RF溅射法制备InSb薄膜时 ,如何克服In的氧化问题的措施及防止InSb薄膜在热处理过程中继续氧化和挥发的方法。对实验结果进行了电镜和俄歇电子能谱测试分析。结果表明...
[期刊论文] 作者：孙承松,温作晓,魏永广,关艳霞,周立军,
来源：真空 年份：2000
本文介绍了 RF溅射制备湿度敏感膜技术 ,讨论了衬底温度、工作气体及压力、放电电压及时间对湿敏膜感湿特性的影响。实验结果表明 ,只要认真控制上述工艺条件便可以制成感湿...
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