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[会议论文] 作者：严臣凤,王力元,
来源：中国感光学会2018年学术年会暨第九届六次理事会 年份：2018
将聚对羟基苯乙烯(PHS)与甲醛在碱或酸催化下进行反应得到羟甲基化产物，此羟甲基很容易在酸催化下发生进一步的脱水缩合反应。因此可以和光产酸剂一起组成负性化学增幅型光刻胶，也可以和适当的染料一起组成光刻加工用的抗反射涂层。利用傅里叶红外光谱(FT-IR)、核......
[会议论文] 作者：严臣凤,路世伟,王力元,
来源：中国感光学会2017年学术年会暨第九届五次理事会 年份：2017
以4,4-二氨基二苯醚(ODA)与4,4-联苯醚二酐(ODPA)共聚反应得到聚酰胺酸(PAA),再用甲醇在酸催化下进行酯化反应.可制得不同比例的一系列聚酰胺酸甲酯,它们可以与酚醛树脂-重氮...
[期刊论文] 作者：尤凤娟, 韩俊, 严臣凤, 王力元,,
来源：影像科学与光化学 年份：2019
光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,...
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