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以纳米SiO2粉体为原料，在高压高温下研究其晶化过程．XRD和Raman谱表明，纳米SiO2在常压1000～1600℃条件下，晶化成α-方石英和少量的鳞石英；在2．0～3．5GPa，320～1100℃条件下，晶化成α-石英；在3．9GPa，320～1100℃条件下，晶化成柯石英．
纳米SiO2在高压高温下的结构转化
【摘 要】
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以纳米SiO2粉体为原料，在高压高温下研究其晶化过程．XRD和Raman谱表明，纳米SiO2在常压1000～1600℃条件下，晶化成α-方石英和少量的鳞石英；在2．0～3．5GPa，320～1100℃条件下，晶化成α-石英；在
【机 构】
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吉林大学物理学院,黑龙江科技学院数力系,哈尔滨工业大学凝聚态科学与技术研究中心,中国科学院国际材料物理中心
【出 处】
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吉林大学学报：理学版
【发表日期】
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2008年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金（批准号：30370406,10674034）.
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