低电离层调制激励VLF／ELF辐射参数优化理论分析

来源 :地球物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ASHLEY920

【摘要】

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针对低电离层幅度调制加热过程中甚低频／极低频（VLF／ELF）激发效率较低的问题，该文利用低电离层调制加热模型分析方波幅度调制加热过程中占空比和加热频率对VLF／ELF辐射效率的影响，在

【作者】

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杨巨涛李清亮郝书吉王建国

【机构】

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西安交通大学电子与信息工程学院,电波环境特性及模化技术重点实验室,西北核技术研究所

【出处】

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地球物理学报

【发表日期】

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2018年2期

【关键词】

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幅度调制加热参数优化占空比加热频率 Amplitude-modulate heating Parameter optimization Duty ra

【基金项目】

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辛国电科技术创新基金（A171601C01）资助.

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针对低电离层幅度调制加热过程中甚低频／极低频（VLF／ELF）激发效率较低的问题，该文利用低电离层调制加热模型分析方波幅度调制加热过程中占空比和加热频率对VLF／ELF辐射效率的影响，在此基础上获得最大VLF／ELF辐射效率下的优化占空比和加热频率选择范围．研究表明，随着调制波占空比的增大，激发的VLF／ELF等效辐射源强度先增大后减小，占空比的优化范围为40％～70％；随着加热频率的增大，激发的VLF／ELF等效辐射源强度先增大后减小，加热频率的优化范围为（0．8～0．9）倍低电离层临界频率．

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