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论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成.其工作波长为13 nm,在直径为0.1 mm的像方视场内设计分辨率优于0.1 μm.
极紫外投影光刻原理装置的集成研究
【摘 要】
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论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春130022
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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2004年期
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