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期刊论文
BF2离子注入在器件中的应用
BF2离子注入在器件中的应用
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:levelsetsharon
【摘 要】
:
本文阐述了把BF2离子团作为一种受主杂质在器件中的应用。认为在半导体器件工艺中,BF2离子团不仅可以代替B离子掺杂,而且由于损伤“吸杂”,可获得比注B离子低二~三个数量级PN
【作 者】
:
范才有
郑宜钧
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
1983年06期
【关键词】
:
注入剂量
方块电阻
注入能量
离子团
数量级
离子注入
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本文阐述了把BF
2
离子团作为一种受主杂质在器件中的应用。认为在半导体器件工艺中,BF
2
离子团不仅可以代替B离子掺杂,而且由于损伤“吸杂”,可获得比注B离子低二~三个数量级PN结漏电流;由于BF
2
引出束流比B离子束流大几十倍的特点,使BF
2
离子团成为一种很好的受主掺杂剂。
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