【摘 要】
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采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响.结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高.NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度Ms增高,矫顽力Hc降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率fr从0.32 GHz降低至0.23 GHz.但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ\"/μ′)过高的问题.
【机 构】
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江西尚朋电子科技有限公司,江西宜春336202;电子科技大学材料与能源学院,四川成都610054;江西尚朋电子科技有限公司,江西宜春336202;电子科技大学材料与能源学院,四川成都610054
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采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响.结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高.NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度Ms增高,矫顽力Hc降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率fr从0.32 GHz降低至0.23 GHz.但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ\"/μ′)过高的问题.
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