【摘 要】
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在氢气气氛下对绝缘体表面进行热处理提高金属-绝缘体-金属（MIM）器件的I-V特性曲线的对称性，简化了该器件的制作工艺，并探讨底电极掺氮对MIM器件I-V特性曲线的影响，用n-n--n能带模
【机 构】
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在氢气气氛下对绝缘体表面进行热处理提高金属-绝缘体-金属（MIM）器件的I-V特性曲线的对称性，简化了该器件的制作工艺，并探讨底电极掺氮对MIM器件I-V特性曲线的影响，用n-n--n能带模型对MIM器件的I-V特性曲线对称性加以解释．
The heat treatment of the insulator surface under hydrogen atmosphere improves the symmetry of the IV characteristic curve of the MIM device, simplifies the fabrication process of the device, and explores the influence of the bottom electrode nitrogen doping on the IV characteristic curve of the MIM device, The nn - n band model is used to explain the IV characteristic curve symmetry of MIM devices.
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