化学腐蚀法制备荧光多孔硅及对Ag~+的检测

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采用简便的化学腐蚀法在45℃下制备了橘红色荧光多孔硅(PS),通过扫描电镜(SEM)、红外光谱(FT-IR)和比表面积(BET)对PS的结构进行了表征。研究发现,Ag~+能在PS上发生氧化沉积而猝灭荧光。基于此,建立了一种快速、灵敏检测Ag~+的新方法。在优化实验条件下,Ag~+浓度与PS的荧光强度在4.5×10~(-8)~6.6×10~(-7)mol/L范围内呈良好的线性关系,检测限为2.2×10~(-8)mol/L,线性相关系数为0.991 4。该方法用于水样中Ag~的检
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