【摘 要】
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研究了ｐ型Ｓｉ１－ｘＧｅｘ应变层中补偿浅能级杂质（Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ）的低温陷阱效应。研究发现，１）三种补偿浅能级杂质Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ相比较，Ｓｂ的陷阱效应最小，Ａｓ的最大；２）Ｇｅ组份ｘ越大，低温陷阱效应越小；３）补偿浅能级杂质浓度ＮＤ越大，低温陷阱
【机 构】
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北京工业大学电子工程系,西安交通大学微电子研究所
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研究了ｐ型Ｓｉ１－ｘＧｅｘ应变层中补偿浅能级杂质（Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ）的低温陷阱效应。研究发现，１）三种补偿浅能级杂质Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ相比较，Ｓｂ的陷阱效应最小，Ａｓ的最大；２）Ｇｅ组份ｘ越大，低温陷阱效应越小；３）补偿浅能级杂质浓度ＮＤ越大，低温陷阱效应越显著，温度越低，陷阱作用越明显。
The low-temperature trap effect for compensating shallow level impurities (P, As, Sb) in p-type Si1-xGex strained layers was investigated. The results show that: 1) the trap effect of Sb is the smallest, and the maximum of As is the comparison between the three compensation shallow energy impurities P, As and Sb; 2) the larger the Ge component x is, the lower the trap effect is; The greater the level of impurity concentration ND, the more significant low-temperature trap effect, the lower the temperature, the more obvious trap effect.
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