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采用拉曼散射光谱和PR6 5 0光谱光度计对VHF PECVD制备的微晶硅薄膜进行了结构表征和在线监测研究 .结果表明 :功率对材料的晶化率 ( χc)有一定的调节作用 ,硅烷浓度大 ,微调作用更明显 ;SiH 的强度只能在一定的范围内表征材料的沉积速率 ,功率大相应的速率反而下降 ;I[Hα ] I[SiH ] 强度比值反映了材料晶化程度 ,此结果和拉曼散射光谱测试结果显示出一致性 ;I[Hβ ] I[Hα ] 的强度比表明氢等离子体中的电子温度随功率的增大而逐渐降低 .