全内反射全息光刻技术

来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：anabaow1a1

【摘要】

：

介绍了全内反射（ＴＩＲ）全息光刻技术的发展情况、基本原理以及其中的关键技术。 The development, basic principle and key technologies of total internal reflection (TIR)

【作者】

：

陈芬冯伯儒张锦侯德胜

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

【出处】

：

微细加工技术

【发表日期】

：

1999年02期

【关键词】

：

光刻技术全内反射掩模物光波参考光束共轭像高分辨率场发射显示器物光束平板显示器

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介绍了全内反射（ＴＩＲ）全息光刻技术的发展情况、基本原理以及其中的关键技术。 The development, basic principle and key technologies of total internal reflection (TIR) holographic lithography are introduced.

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