二次发射多丝束流剖面监测器

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本文描述了基于二次发射原理的多丝束流剖面监测器,可测量束流总强度范围为10nA~10μA 的束流剖面密度分布,或者以模拟形式在示波器上作直观显示,或者以数字形式由计算机作进一步处理。文中列举了监测器几个应用例。最后提出了进一步改进意见。该剖面监测器已成功地应用于HZRFL 重离子加速器SFC—SSC 束流传输线的调整。其灵敏度、剖面波形观察以及计算机处理等都得到较为满意的结果。 This paper describes a multifilament beam profiler based on the principle of secondary emission, which measures the beam profile density distribution with a total beam current intensity in the range of 10nA to 10μA, either in analog form on an oscilloscope or in digital form For further processing by the computer. The article lists several examples of monitor applications. Finally, we put forward some suggestions for further improvement. The profile monitor has been successfully applied to the adjustment of the HZRFL heavy ion accelerator SFC-SSC beamline. Its sensitivity, profile waveform observation and computer processing have been more satisfactory results.
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